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2025年6月4-6日

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電滲析工藝進水鈣離子究竟要控制在多少以下呢?

中水回用、廢水零排放中,廢水的濃縮減量,往往會涉及到鈣鹽的結垢問題。針對于電滲析工藝,進水鈣離子究竟要控制在多少以下呢?閥門展小編今天來介紹介紹:

以硫酸鈣系統(tǒng)為例:

資料01 硫酸鈣的結垢

在工業(yè)廢水的處理中,碳酸鹽、磷酸鹽、硫酸鹽都是比較常見的結垢成分,碳酸鹽和磷酸鹽一定程度上可以通過酸來調控,而硫酸鈣垢往往致密堅硬且酸堿難溶,在膜濃縮過程中很不受待見。

最常規(guī)理解:如果系統(tǒng)產生硫酸鈣結垢,廢水中其硫酸鈣溶液濃度已過飽和。在這類系統(tǒng)的測算中,免不了需要了解物質的溶解度及其影響因素。

結晶過程的產生取決于固體與其溶液之間的平衡關系,溶質從溶液中結晶出來,正常都涉及到兩個過程:晶核的產生和晶體的生長。溶液的過飽和度與結晶存在以下的關系:

電滲析工藝進水鈣離子究竟要控制在多少以下呢?-

曲線b:物質溶解度曲線;b曲線以下,屬于穩(wěn)定區(qū),不存在結晶問題。

曲線a:超溶解度曲線;a曲線以上,屬于不穩(wěn)定區(qū),溶液能自發(fā)的產生晶核,并伴隨晶體生長。

曲線a和b之間其實還存在一個介穩(wěn)區(qū),溶液也處于過飽和狀態(tài),但是由于無法自發(fā)形成晶核,所以還不會產生晶體。

不難理解,b曲線很容易得到,那a曲線可以怎么得到呢?按我的理解,上圖可以給我們一些答案:b曲線條件下,緩慢降低溫度,有晶體析出時,即可找到對應的a曲線對應的點。

在實際過程中,超溶解度曲線的繪制往往會更加復雜一些。基于這些特點,電滲析系統(tǒng)中硫酸鈣的結垢問題是否也需要多角度考慮?

綜合膜行業(yè)朋友的各類反饋:超溶解度曲線對ed而言,意義不明顯,目前均以b曲線參考為主,測算硫酸鈣的溶度積。

部分可參考性解釋如下:1.介穩(wěn)區(qū)的區(qū)間有限,電滲析存在溫升,無法實現精度控制,而且也沒有必要;2. 電滲析遷移過程,膜表面與隔室間溶液存在濃度差,并非一個完全均一的溶液系統(tǒng);3. 電滲析存在倒極功能,一定條件下的高頻電場可以產生靜電斥力、抑制晶體生長速率;4.工業(yè)水硫酸鹽系統(tǒng)大多為混鹽,無法得到唯一的參考曲線。

資料02 幾個重要的概念

在進行硫酸鈣系統(tǒng)沉淀、溶解等平衡測算時,主要涉及到混合溶液中其它離子對溶解度的影響,這里需要重新回憶大學無機化學的幾個概念:

離子活度:離子實際發(fā)揮作用的濃度稱為有效濃度,或稱為活度。即有時候結垢的陰陽離子沒有想象的那么容易“碰面”。

離子強度:離子強度是衡量溶液中存在離子所產生的電場強度的量度,水溶液中電解質的濃度會影響到其他鹽類的溶解度,而影響的強弱程度就稱為離子強度。

離子積和溶度積常數:前者大,析出沉淀;后者大,無沉淀析出;兩者相等,溶液飽和。

測算時,可參考的公式如下:

電滲析工藝進水鈣離子究竟要控制在多少以下呢?-

其中硫酸鈣在25℃條件下,溶度積ksp'常數與離子強度的參考曲線:

電滲析工藝進水鈣離子究竟要控制在多少以下呢?-

雖然上述3.2德拜-休克爾公式有應用前提條件,但以公式為基礎,硫酸鈣的ksp'常數與離子強度的關系曲線就不難理解。在低濃度時,溶解度隨離子強度增大,活度系數降低,故而硫酸鈣溶解度增加,在高鹽濃度況下,硫酸鈣形成離子對,短程靜電相互作用增強,使溶解度降低。

在實際的ed工藝測算中,含硫酸鈣的廢水系統(tǒng),測算過程相對簡單化:1. 根據工藝要求,設定濃縮倍數,測算出濃水水質;2. 以濃水數據,測算出系統(tǒng)的濃水離子強度;3. 以離子強度數據為基礎,根據曲線得到濃水硫酸鈣的ksp'常數;3. 根據離子濃度,計算出硫酸鈣的離子積常數;4. 基于上述參數,核對工藝參數設定是否合理?進水ca離子是否滿足要求?

資料03 案例測算說明

電滲析工藝進水鈣離子究竟要控制在多少以下呢?-

(1) 電滲析初步按濃水tds=180g/l考慮,濃縮倍數約5.47倍;

(2) 測算出此條件下的濃水水質,再求離子強度=2.88mol/l(按公式3.3計算即可);

(3) 得到濃水硫酸鈣ksp'常數=31.2*10^(-4),查圖即可;

(4) 濃水硫酸鈣離子積常數=4.67*10^(-4),按公式計算;

(5) 為了提高穩(wěn)定性,濃水最終按0.8ksp'考慮;

(6) 即滿足濃水離子積常數<0.8濃水ksp'常數,系統(tǒng)結垢風險極低。

一套流程下來,測算的過程是否與ro設計思路類似?

顯然在這類系統(tǒng)中,前期的評估我們更多地只考慮了鹽效應的影響,硫酸鈣的結垢對電滲析而言,系統(tǒng)還可以通過添加阻垢劑、高頻的倒極、單價選擇膜的選型、設備的拆洗等方式進行應對。此外,由于硫酸鈣的沉淀優(yōu)先在陰膜表面產生,所以陰膜性能的優(yōu)化也是一個選擇,組器的設計更是如此。

閥門展綜合上述簡易分析,不難理解,對于電滲析進水鈣離子而言,幾十ppm、幾百ppm、幾千ppm的系統(tǒng),也未嘗不可處理,關鍵還是水質特性和處理目標。

(來源:膜法水處理札記 ;如有侵權,請聯(lián)系刪除)

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